eView Series
电子束缺陷复查系统

        eView Series电子束 （e-beam） 晶圆缺陷检查和晶圆分类系统可捕获缺陷的高分辨率图像，从而准确表示晶圆上的缺陷群。采用了新开发的电子光学成像和信号检测技术。它具备快速成像和超高电子束成像能力，低能电子束分辨率低至 1.4 纳米，每小时可采集多达 6000 张缺陷图像，适用于先进制程。其独特的多视角成像检测技术和高深宽比特征分析能力，为用户提供了更多的样品信息。它配备了基于深度学习的高精度智能在线自动缺陷识别（ADR）和分类（ADC）算法，API 模式可实现对热点缺陷的自主检测。可选的深紫外暗场模式提高了裸晶圆缺陷的定位精度和检测率。凭借先进的成像技术和强大的分析工具，eView能够快速、高效、准确地完成缺陷检测、复查和分类，为半导体晶圆制程监控和良率提升提供了有效的解决方案。